[发明专利]一种电路问题设计布图定位调整的方法有效

专利信息
申请号: 201010230166.4 申请日: 2010-07-19
公开(公告)号: CN102339331A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 吴玉平;陈岚;叶甜春 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 王建国
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明适用于集成电路设计领域,提供了一种电路问题设计布图定位调整的方法,所述方法包括:建立布图问题对电路性能的影响趋势表;对模拟集成电路前仿真波形和后仿真波形比较分析,确定模拟集成电路问题波形;根据问题波形定位影响模拟集成电路性能的寄生RLC问题序列;根据寄生RLC问题序列确定寄生RLC位置;根据寄生RLC位置确定寄生RLC连接的器件和对应的物理连接;确定问题设计布图;根据布图问题对电路性能的影响趋势表调整问题设计布图。本发明通过自动定位模拟集成电路问题设计布图并进行调整,解决了现行模拟集成电路设计布图问题的定位调整效率低、速度慢的问题,同时提高了模拟集成电路设计布图问题定位调整的自动化水平。
搜索关键词: 一种 电路 问题 设计 定位 调整 方法
【主权项】:
一种电路问题设计布图定位调整的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:根据电路分析建立布图问题对电路性能的影响趋势表;对模拟集成电路的前仿真波形和后仿真波形进行比较分析,确定模拟集成电路的问题波形;根据所述问题波形定位影响所述模拟集成电路性能的问题寄生RLC问题序列;根据所述问题寄生RLC问题序列确定问题寄生RLC的位置;根据所述问题寄生RLC的位置确定问题寄生RLC连接的器件和对应的物理连接;根据所述问题寄生RLC连接的器件和对应的物理连接确定问题设计布图;根据所述布图问题对电路性能的影响趋势表调整所述问题设计布图。
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