[发明专利]一种高硬度自洁釉及制备方法有效
| 申请号： | 201010230337.3 | 申请日： | 2010-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN101870593A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | 王彦庆;宋子春;董志军;檀瑞超;吉艳光;董子红;高晓琳;马艳丽;王春金 | 申请（专利权）人： | 唐山惠达陶瓷(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 | 代理人： | 周晓萍;李桂芳 |
| 地址： | 063307 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 一种高硬度自洁釉及制备方法，属陶瓷制品技术领域，用于解决提高自洁洁具釉面硬度问题。特别之处是：自洁釉原料组成包括如下质量份的物质：钾长石8-16，石英10-18，高岭土2，三氧化二铝1-4，方解石1-4，硅酸锆1-3，熔块59-69，其中硅酸锆平均粒径为1～1.5um，熔块的熔融温度为1500～1700℃。本发明通过引入适量耐高温熔块及超细硅酸锆，调整釉面化学成分，来调整釉中石英、硅酸锆、玻璃相等矿物组成。使(-Si-O-)网络结构更加致密，达到提高釉面硬度的目的。此外，通过改变颗粒级配，将釉浆粒度(≤10um)控制在70％～80％，使本发明的自洁釉更加趋于光滑平整。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硬度 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高硬度自洁釉，其特征在于，所述自洁釉原料组成包括如下质量份的物质：钾长石8-16，石英10-18，高岭土2，三氧化二铝1-4，方解石1-4，硅酸锆1-3，熔块59-69，其中硅酸锆平均粒径为1～1.5um，熔块的熔融温度为1500～1700℃。
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