[发明专利]硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液有效
| 申请号： | 201010231307.4 | 申请日： | 2010-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN101864247A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 李军;朱永伟;左敦稳;张彦;高平;蒋毕亮;杨涛;周睿洋;王军 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | C09G1/04 | 分类号： | C09G1/04 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 瞿网兰 |
| 地址： | 210016 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液，其特征在于它是由腐蚀剂0.5%-40%，腐蚀抑制剂0.5%-20%，表面活性剂0.5%-15%，pH调节剂0.1%-10%以及去离子水组成。无磨料抛光液不含任何磨料，对被抛光材料表面损伤小，可以获得无损伤超光滑表面，而且不会产生沉淀，能够长时间的保存和使用。其次，无磨料抛光液稳定性好，不易挥发，流动性好，易清洗，对设备腐蚀小。本发明是专门针对硬脆材料化学机械抛光而制备的一种无磨料抛光液，不但兼具无磨料抛光液的优点，还针对硬脆材料有较大的去除率，能得到更高的表面质量，并且成本低，方法简便易行。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 化学 机械抛光 磨料 抛光 | ||
【主权项】：
一种硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液，其特征在于它是由腐蚀剂，腐蚀抑制剂，表面活性剂，PH调节剂以及去离子水混合组成，其质量百分比分别为：腐蚀剂 0.5%-40%；腐蚀抑制剂 0.5%-20%；表面活性剂 0.5%-15%；PH调节剂 0.1%-10%；去离子水 30%-95%。
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