[发明专利]成像装置和成像方法有效

专利信息
申请号: 201010232975.9 申请日: 2010-07-16
公开(公告)号: CN101959020A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: 潘毅 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232;G03B13/36;G02B7/36;G03B7/08
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 刘光明;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种成像装置和成像方法。该成像方法包括:计算基准光学系统与调整目标光学系统之间的视差量;设定与由基准光学系统输出的第一视点图像相对应的成像条件评估区的坐标;基于与第一视点图像相对应的成像条件评估区的设定坐标,和基于所计算的视差量来计算与由调整目标光学系统输出的第二视点图像相对应的成像条件评估区的坐标;以及基于在设定坐标处的、与第一视点图像相对应的成像条件评估区中的图像数据,并基于在所计算的坐标处的、与第二视点图像相对应的成像条件评估区中的图像数据,来调整基准光学系统和调整目标光学系统的成像条件,并在已调整的成像条件下输出视点图像。
搜索关键词: 成像 装置 方法
【主权项】:
一种成像装置,包括:成像单元,所述成像单元被配置为通过成像元件对分别经由基准光学系统和调整目标光学系统而形成的对象图像进行光电转换,并输出用于左眼和右眼的视点图像;视差量计算单元,所述视差量计算单元被配置为计算所述基准光学系统与所述调整目标光学系统之间的视差量;设定单元,所述设定单元被配置为设定与由所述基准光学系统输出的第一视点图像相对应的成像条件评估区的坐标;计算单元,所述计算单元被配置为基于已由所述设定单元设定的与由所述基准光学系统输出的所述第一视点图像相对应的所述成像条件评估区的坐标和基于由所述视差量计算单元计算的所述视差量,计算与由所述调整目标光学系统输出的第二视点图像相对应的成像条件评估区的坐标;以及控制单元,所述控制单元被配置为基于在由所述设定单元设定的所述坐标处的、与来自所述基准光学系统的视点图像相对应的所述成像条件评估区中的图像数据,和基于在由所述计算单元计算的所述坐标处的、与来自所述调整目标光学系统的视点图像相对应的所述成像条件评估区中的图像数据,来调整所述基准光学系统和所述调整目标光学系统的成像条件,并控制所述成像单元在已调整成像条件下输出所述视点图像。
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