[发明专利]从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法有效
| 申请号： | 201010242906.6 | 申请日： | 2010-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN102276080A | 公开（公告）日： | 2011-12-14 |
| 发明（设计）人： | 高仁富;邝国生;兰永辉;孙荣斌;许世爱;彭韬;肖华 | 申请（专利权）人： | 深圳东江华瑞科技有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04;C02F1/66;C02F101/20 |
| 代理公司： | 深圳市睿智专利事务所 44209 | 代理人： | 陈鸿荫;王用强 |
| 地址： | 518104 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法，包括步骤：调节待处理印制电路板酸性蚀刻废液的pH值在2.0～3.0之间；絮凝沉淀：①按每立方米待处理印制电路板酸性蚀刻废液称取0.8～1.5千克的絮凝剂；②用水稀释称量好的絮凝剂，搅拌配置成粘稠溶液；③将絮凝剂溶液加入经pH值调节后的酸性蚀刻废液中，搅拌3～20分钟，然后静置3～6小时；将沉淀物过滤掉，得到除砷后的印制电路板酸性蚀刻废液。本发明除砷的pH值方法采用pH值调节法和絮凝沉淀法共同使用，在成本低廉的情况下实现对印制电路板酸性蚀刻废液的除砷处理，具有处理成本低、操作简单和设备投资小等优点，适合对大批量印制电路板酸性蚀刻废液的除砷处理。 | ||
| 搜索关键词： | 印制 电路板 酸性 蚀刻 ph 方法 | ||
【主权项】：
一种从印制电路板酸性蚀刻液中除砷的pH值方法，用于从印制电路板酸性蚀刻废液生产出碱式氯化铜的前期处理，包括如下步骤：A、pH值调节：调节待处理印制电路板酸性蚀刻废液的pH值在2.0～3.0之间；B、絮凝沉淀：①称量，按每立方米待处理印制电路板酸性蚀刻废液称取0.8～1.5千克的絮凝剂；②配置絮凝剂溶液，用水稀释称量好的絮凝剂，搅拌配置成粘稠溶液；③将配置好的絮凝剂溶液加入经所述pH值调节后的酸性蚀刻废液中，搅拌3～20分钟，然后静置3～6小时；C、过滤：将沉淀物过滤掉，得到除砷后的印制电路板酸性蚀刻废液。
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