[发明专利]一种硅藻样品分层氟化的分析方法有效
| 申请号： | 201010244436.7 | 申请日： | 2010-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN102156163A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 李铁军;李洪伟;冯连君;张福松;霍卫国 | 申请（专利权）人： | 中国科学院地质与地球物理研究所 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;G01N1/28 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 陈小莲;王凤桐 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种硅藻样品分层氟化的分析方法，包括：(1)将所述硅藻样品颗粒的表层氧去除掉；(2)在真空条件下，用氟化剂对去除了表层氧的硅藻样品颗粒进行完全氟化；(3)将完全氟化生成的O2转化成CO2，并将CO2进行质谱分析，以得到硅藻样品的δ18O‰值，将所述硅藻样品的表层氧去除掉的方法包括：在真空条件下，用氟化剂对硅藻样品颗粒进行预氟化，以硅藻样品颗粒中的二氧化硅计，相对于100摩尔的二氧化硅，预氟化所用氟化剂的用量为40-60摩尔。本发明提供的分析方法能够有效地将硅藻样品颗粒的表层氧去除掉，并且无需额外的设备，在有效地获得特征氧同位素信息的情况下，也大大地拓展了硅藻氧同位素分析法的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅藻 样品 分层 氟化 分析 方法 | ||
【主权项】：
一种硅藻样品分层氟化的分析方法，该方法包括：(1)将所述硅藻样品颗粒的表层氧去除掉；(2)在真空条件下，用氟化剂对去除了表层氧的硅藻样品颗粒进行完全氟化；(3)将完全氟化生成的O2转化成CO2，并将CO2进行质谱分析，以得到硅藻样品的δ18O‰值，其特征在于，将所述硅藻样品的表层氧去除掉的方法包括：在真空条件下，用氟化剂对硅藻样品颗粒进行预氟化，以硅藻样品颗粒中的二氧化硅计，相对于100摩尔的二氧化硅，预氟化所用氟化剂的用量为40‑60摩尔。
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