[发明专利]两面曝光装置

摘要

提供一种具有掩模库的两面曝光装置，缩短工件的曝光处理所需要的整体时间，防止生产能力的降低。将被搬运至工件搬入搬出部(20)的工件(W)搬运至工件平台(4)，将形成于从掩模库(6)所取出的第1面(表面)曝光用掩模的图案对工件(W)进行曝光。并且，在反转平台部(30)反转(翻转)工件(W)，并将工件(W)保管在工件保管部(40)。这样，曝光1批量的所有工件的第1面(表面)。之后，将掩模更换成第2面(背面)曝光用的掩模，从工件保管部(40)取出第1面曝光结束的工件，曝光工件的第2面(背面)。完成背面的曝光的工件(W)，利用第1工件搬运机构(50b)，被搬运到工件搬入搬出部(20)。

主权项

一种两面曝光装置，具备：光照射部，照射曝光光；掩模平台，保持形成有图案的掩模；工件平台，载置工件；第1掩模，用于对工件的第1面曝光图案；第2掩模，用于对工件的第2面曝光图案；掩模库，保管上述第1掩模与第2掩模；掩模搬运机构，在上述掩模库与上述掩模平台之间搬运掩模；投影透镜，将形成于第1掩模与第2掩模的掩模图案，投影到载置于上述工件平台的工件的面上；反转平台，将第1面被曝光了的工件反转；及控制部，对来自上述光照射部的曝光光的照射、利用上述掩模搬运机构的第1掩模及第2掩模的更换、利用上述反转平台的工件的反转、上述工件的搬运进行控制，其特征为：具备对第1面被曝光了的多个工件进行保管的工件保管部，上述控制部，对由多个工件所构成的1批工件的所有工件，首先曝光第1面，并保管在上述工件保管部，对1批工件的所有工件完成了第1面的曝光之后，将第1掩模更换成第2掩模，曝光第2面。