[发明专利]折反射投射物镜有效
| 申请号： | 201010254294.2 | 申请日： | 2010-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN101995591A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 弗拉迪米尔·卡梅诺夫;亚历山大·埃普尔;托拉尔夫·格鲁纳;托马斯·希克坦兹 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B13/00;G02B17/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于微光刻的折反射投射物镜，将物面中的物场成像到像面中的像场上，且包括：第一分物镜，将物场成像到实的第一中间像上；第二分物镜，将第一中间像成像到实的第二中间像上；以及第三分物镜，将第二中间像成像到像场上。第二分物镜是恰具有一个凹面镜且具有至少一个透镜的折反射物镜。提供第一折叠镜和第二折叠镜，该第一折叠镜用于将来自物面的光线转向凹面镜的方向，该第二折叠镜用于将来自凹面镜的光线转向像面的方向。第二分物镜的透镜的至少一个表面具有对于从150nm到250nm的工作波长及从0°到30°的入射角反射率小于0.2％的抗反射涂层。备选地或附加地，第二分物镜的透镜的所有表面被构造为偏离所述边缘光线同心度大于或等于20°。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 投射 物镜 | ||
【主权项】：
一种用于微光刻的折反射投射物镜(1、1101、1601、1701)，用于将物面(5、1105、1605、1705)中的物场(3、1103、1603、1703)成像到像面(9、1109、1609、1709)中的像场(7、1107、1607、1707)，包括：第一分物镜(11、1111、1611、1711)，用于将所述物场成像到实的第一中间像(13、1113、1613、1713)上；第二分物镜(15、1115、1615、1715)，用于将所述第一中间像成像到实的第二中间像(17、1117、1617、1717)上；以及第三分物镜(19、1119、1619、1719)，用于将所述第二中间像成像到所述像场上，其中所述第二分物镜是恰具有一个凹面镜(21、1121、1621、1721)且具有至少一个透镜(L21、L22、L1111、L1611、L1712)的折反射物镜，并且其中提供第一折叠镜(23、1123、1623、1723)和第二折叠镜(25、1125、1625、1725)，所述第一折叠镜用于将来自所述物面的光线偏向所述凹面镜的方向，所述第二折叠镜用于将来自所述凹面镜的光线偏向所述像面的方向，其特征在于：所述第二分物镜的所述透镜(L21、L22、L1111、L1611、L1712)的至少一个表面具有对于从150nm到250nm的工作波长及从0°到30°的入射角反射率小于0.2％的抗反射涂层(337、437、537)。
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