[发明专利]具有嵌入式高密度电容的硅基座有效

专利信息
申请号: 201010255407.0 申请日: 2010-08-16
公开(公告)号: CN102376780A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 谢正雄;黄振堂 申请(专利权)人: 众智光电科技股份有限公司
主分类号: H01L29/94 分类号: H01L29/94;H01L29/41;H04B10/06;H04B10/12
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种具有嵌入式高密度电容的硅基座,属于电容性基座领域。其中,该电容性基座,用于玻璃光纤接收器中的光二极管的非接地绝缘,该基座包含:一重掺杂硅基板;沟槽数组,形成在该硅基板的上表面;一介电层,形成在该沟槽数组的表面上;一上电极,沉积覆盖在该介电层上;及一下电极,沉积在该硅基板的下表面上。本发明的电容性基座,能够克服TO-46金属罐封装结构中的空间可用性。
搜索关键词: 具有 嵌入式 高密度 电容 基座
【主权项】:
一种电容性基座,用于玻璃光纤接收器中的光二极管的非接地绝缘,该基座包含:一重掺杂硅基板;沟槽数组,形成在该硅基板的上表面;一介电层,形成在该沟槽数组的表面上;一上电极,沉积覆盖在该介电层上;及一下电极,沉积在该硅基板的下表面上。
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