[发明专利]非晶态氧化物半导体材料、场效应晶体管和显示装置有效

专利信息
申请号: 201010255843.8 申请日: 2010-08-16
公开(公告)号: CN102082170A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 滨威史;铃木真之;田中淳;望月文彦 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01L29/12 分类号: H01L29/12;H01L29/786;H01L27/32
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种非晶态氧化物半导体材料,场效应晶体管和显示装置。所述非晶态氧化物半导体材料包含含有In、Ga和Zn的非晶态氧化物半导体,其中当In∶Ga∶Zn=a∶b∶c表示所述氧化物半导体的元素组成比时,所述元素组成比由下列范围限定:a+b=2,并且b<2,并且c<4b-3.2,并且c>-5b+8,并且1≤c≤2。
搜索关键词: 晶态 氧化物 半导体材料 场效应 晶体管 显示装置
【主权项】:
一种非晶态氧化物半导体材料,所述非晶态氧化物半导体材料包含含有In、Ga和Zn的非晶态氧化物半导体,其中当In∶Ga∶Zn=a∶b∶c表示所述氧化物半导体的元素组成比时,所述元素组成比由下列范围限定:a+b=2,并且b<2,并且c<4b‑3.2,并且c>‑5b+8,并且1≤c≤2。
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