[发明专利]光学元件、成像光学系统和成像设备有效
申请号: | 201010260665.8 | 申请日: | 2010-08-19 |
公开(公告)号: | CN102004369A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 山野裕贵 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G03B11/04 | 分类号: | G03B11/04;G02B5/22;G02B27/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 郭定辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了光学元件、成像光学系统和成像设备。所述光学元件包括:基底材料,由具有红外吸收作用的膜状树脂材料形成;以及多层式膜,其调整光谱特性,并形成在基底材料的物侧表面和像侧表面上。将所述光学元件布置在成像光学系统的光路上,并且所述光学元件具有这种特性:物侧表面和像侧表面上的其光谱透射率以及其光谱反射率满足条件(1)到(4):(1)0.75<TIRCF(600)/TIRCF(540)<0.95;(2)615<λLT50%<670;(3)|TIRCF(700)/TIRCF(540)|<0.05;以及(4)680≤λLR50%,其中TIRCF(600)、TIRCF(540)和TIRCF(700)分别是具有600nm、540nm和700nm波长的光的光谱透射率,以及λLT50%和λLR50%分别是在50%光谱透射率处和50%光谱反射率处的近红外光的波长。 | ||
搜索关键词: | 光学 元件 成像 光学系统 设备 | ||
【主权项】:
一种光学元件,包括:基底材料,由具有红外吸收作用的膜状树脂材料形成;以及多层式膜,其调整光谱特性,并形成在基底材料的物侧表面和像侧表面上,将所述光学元件布置在成像光学系统的光路上,并且所述光学元件具有这种特性:物侧表面和像侧表面上的其光谱透射率以及其光谱反射率满足如下条件(1)到(4)(1)0.75<TIRCF(600)/TIRCF(540)<0.95(2)615<λLT50%<670(3)|TIRCF(700)/TIRCF(540)|<0.05(4)680≤λLR50%,其中TIRCF(600)是具有600nm波长的光的光谱透射率,TIRCF(540)是具有540nm波长的光的光谱透射率,λLT50%是在50%光谱透射率处的近红外光的波长,TIRCF(700)是具有700nm波长的光的光谱透射率,以及λLR50%是在50%光谱反射率处的近红外光的波长,其中波长的单位是nm。
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