[发明专利]光学元件和制造光学元件的方法有效
| 申请号： | 201010265375.2 | 申请日： | 2010-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN102004271A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 远藤惣铭;林部和弥 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 吴孟秋;梁韬 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了具有防反射功能的光学元件和制造该光学元件的制造方法。该光学元件包括：基体，具有第一主表面和第二主表面；多个结构体，由凸部或凹部组成，以等于或小于等于反射量将被减小的可见光的波长的微小节距而被配置在第一主表面上；以及光吸收层，用于吸收光并且被布置在第二主表面上，其中，这些结构体被配置为在第一主表面上形成多列轨迹，并形成六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案或者准四方点阵图案，并且这些结构体均具有椭圆锥形状或者截顶椭圆锥形状，其长轴方向为轨迹的延伸方向。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种具有防反射功能的光学元件，包括：基体，具有第一主表面和第二主表面；多个结构体，由凸部或凹部组成，并且以等于或小于反射量将被降低的可见光的波长的微小节距而配置在所述第一主表面上；以及光吸收层，吸收所述光并且被布置在所述第二主表面上，其中，所述结构体被配置为在所述基体的所述第一主表面上形成多列轨迹，并形成六方点阵图案、准六方点阵图案、四方点阵图案或者准四方点阵图案，以及各个所述结构体具有椭圆锥形状或者截顶椭圆锥形状，其长轴方向为所述轨迹的延伸方向。
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