[发明专利]画素结构的修补方法、修补后的画素结构以及画素数组无效

专利信息
申请号: 201010267630.7 申请日: 2010-08-25
公开(公告)号: CN101969044A 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: 黄义仁;黄彦衡;曾文贤;陈宗凯;白佳蕙;郑为元 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L21/768;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1343
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 郭蔚
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种画素结构的修补方法,此方法包括提供位于基板上的画素结构,此画素结构包括扫描线以及数据线、主动组件、绝缘层以及画素电极。扫描线以及数据线位于基板上。主动组件位于基板上且与扫描线以及数据线电性连接。绝缘层覆盖主动组件、扫描线以及数据线,其中绝缘层中具有接触窗开口。画素电极位于绝缘层上,其中画素电极填入接触窗开口中以与主动组件电性连接。接着,进行激光移除程序,以移除位于接触窗开口内的画素电极,以使画素电极与主动组件电性绝缘。本发明还公开了一种修补后的画素结构及画素数组。
搜索关键词: 结构 修补 方法 以及 素数
【主权项】:
一种画素结构的修补方法,包括:提供一画素结构,其位于一基板上,其中该画素结构包括:一扫描线以及一数据线,位于该基板上;一主动组件,位于该基板上,且与该扫描线以及该数据线电性连接;一绝缘层,覆盖该主动组件、该扫描线以及该数据线,其中该绝缘层中具有一接触窗开口;一画素电极,位于该绝缘层上,其中该画素电极填入该接触窗开口中以与该主动组件电性连接;以及进行一激光移除程序,以移除位于该接触窗开口内的至少部份该画素电极,以使该画素电极与该主动组件电性绝缘。
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