[发明专利]光学记录介质、制造光学记录介质的方法、记录方法及再现方法无效
| 申请号： | 201010271123.0 | 申请日： | 2010-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN102013260A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 藤田五郎;齐藤公博 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/0065 | 分类号： | G11B7/0065;G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 王安武;南霆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光学记录介质、制造光学记录介质的方法、记录方法及再现方法。该光学记录介质包括记录层及中间层。记录层包括具有预定光栅间距的衍射光栅，通过将透明且折射率略微不同的的第一层与第二层交替层叠来获得该衍射光栅。中间层透明且具有比记录层更大的厚度。在该光学记录介质中，记录层与中间层被交替层叠。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 制造 方法 再现 | ||
【主权项】：
一种光学记录介质，包括：记录层，其包括具有预定光栅间距的衍射光栅，通过将透明且折射率略微不同的第一层和第二层交替层叠来获得所述衍射光栅；以及中间层，其是透明的且具有比所述记录层更大的厚度，所述记录层与所述中间层被交替层叠。
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