[发明专利]真空传输制程设备及方法有效
申请号: | 201010273283.9 | 申请日: | 2010-09-03 |
公开(公告)号: | CN102386272A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 钱锋 | 申请(专利权)人: | 上海凯世通半导体有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 薛琦;朱水平 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种真空传输制程设备,其包括:至少两个进出件腔;至少两个与各进出件腔一一对应的传输平台;至少一第一机械手臂;至少一第二机械手臂;其中,该加工介质能够穿过各传输平台、但无法穿过工件,各传输平台用于依次连续地从进出件腔移向该真空制程腔并利用该加工介质完成对工件的半加工,然后从该真空制程腔移回进出件腔并利用该加工介质完成对工件的完全加工。本发明还公开了另三种真空传输制程设备以及四种真空传输制程方法。本发明能够实现对工件的连续加工,获得极高的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 真空 传输 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种真空传输制程设备,其包括一真空制程腔,该真空制程腔中设有一用于利用一加工介质对工件进行加工的加工装置,其特征在于,该真空传输制程设备还包括:至少两个可以在大气状态与真空状态之间切换的进出件腔,该些进出件腔中的一些连接于该真空制程腔一侧、其余进出件腔连接于该真空制程腔另一侧;至少两个与各进出件腔一一对应的传输平台,各传输平台均可以承载工件在进出件腔与该真空制程腔之间沿直线路线往复移动,该加工介质的传输路径穿过各传输平台的移动路径;至少一第一机械手臂,用于从大气环境向位于设于该真空制程腔一侧的进出件腔中的传输平台装载工件,以及从位于该些进出件腔中的传输平台向大气环境卸载工件;至少一第二机械手臂,用于从大气环境向位于设于该真空制程腔另一侧的进出件腔中的传输平台装载工件,以及从该些进出件腔中的传输平台向大气环境卸载工件;其中,该加工介质能够穿过各传输平台、但无法穿过工件,各传输平台用于依次连续地从进出件腔移向该真空制程腔并利用该加工介质完成对工件的半加工,然后从该真空制程腔移回进出件腔并利用该加工介质完成对工件的完全加工。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的