[发明专利]抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法有效
| 申请号： | 201010273819.7 | 申请日： | 2010-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN101976796A | 公开（公告）日： | 2011-02-16 |
| 发明（设计）人： | 孟涛;唐景平;胡俊江;温磊;陈力;陈伟;胡丽丽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | H01S3/08 | 分类号： | H01S3/08;H01S3/10 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法，包括(一)选取与所述的片状激光钕玻璃相匹配的吸收玻璃和有机粘接剂；(二)所述的片状激光钕玻璃和吸收玻璃板条的加工和粘贴，(三)片状激光钕玻璃的通光面进行精密抛光等步骤。本发明可有效地抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射和寄生振荡，增益性能接近理论计算水平，并具有较好的稳定性，满足高功率激光装置的使用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 抑制 尺寸 片状 激光 玻璃 放大 自发辐射 方法 | ||
【主权项】：
一种抑制大尺寸片状激光钕玻璃放大自发辐射的方法，其特征在于该方法包括下列步骤：(一)选取与所述的片状激光钕玻璃相匹配的吸收玻璃和有机粘接剂：该吸收玻璃的热膨胀系数与所述的片状激光钕玻璃的热膨胀系数的差值小于2％，所述的吸收玻璃在激光波长的折射率n1大于所述片状激光钕玻璃在激光波长的折射率n2，且n1‑n2＝0.0005～0.005；选取有机粘接剂，该有机粘接剂和所述片状激光钕玻璃在激光波长的折射率匹配，所述的有机粘接剂在激光波长的折射率n3，要求满足关系式：n2＜n3＜n1；(二)所述的片状激光钕玻璃和吸收玻璃板条的加工和粘贴：对所述的片状激光钕玻璃的周边选配尺寸相适应的吸收玻璃板条并进行光学加工，经处理后，用所述的有机粘接剂，将所述的吸收玻璃板条紧密地粘贴在所述的片状激光钕玻璃的周边上；(三)片状激光钕玻璃的通光面进行精密抛光：将周边都粘贴了所述的吸收玻璃板条的片状激光钕玻璃进行外部尺寸整形，对所述的片状激光钕玻璃的通光面进行精密抛光并达到设计要求。
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