[发明专利]光刻胶组合物无效
申请号: | 201010276810.1 | 申请日: | 2010-09-07 |
公开(公告)号: | CN102023479A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 釜渊明;山下裕子 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00;C07C211/63;C07C62/06;H01L21/027 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;张耀宏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供一种光刻胶组合物,包含:树脂,其含有衍生自具有酸敏基团的化合物的结构单元,且其不溶或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液,产酸剂,和式(I′)表示的化合物:其中R51、R52、R53和R54各自独立地代表C1-C8烷基,A11代表可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C3-C36二价饱和环烃基,或者可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C6-C20二价芳烃基。 |
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搜索关键词: | 光刻 组合 | ||
【主权项】:
1.一种光刻胶组合物,包含:树脂,其含有衍生自具有酸敏基团的化合物的结构单元,且其不溶或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液,产酸剂,和式(I′)表示的化合物:
其中R51、R52、R53和R54各自独立地代表C1-C8烷基,A11代表可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C3-C36二价饱和环烃基,或者可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C6-C20二价芳烃基。
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