[发明专利]一种纳米Ti基蒙脱土Cu催化剂的制备方法及其在HC-SCR中的应用无效
申请号: | 201010279857.3 | 申请日: | 2010-09-13 |
公开(公告)号: | CN101947449A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 李新勇;陆光;曲振平;肇启东;石勇 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | B01J23/72 | 分类号: | B01J23/72;B01D53/86;B01D53/56 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 梅洪玉 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开了一种纳米Ti基蒙脱土Cu催化剂的制备方法及其在HC-SCR中的应用,属于无机纳米催化材料领域。其制备方法是先制备柱化剂溶液和蒙脱土悬浮液,然后将柱化剂溶液加入到蒙脱土悬浮液中,最后将蒙脱土悬浮液滴加到铜前驱体溶液中。本发明涉及的催化剂的制备方法操作简单、成本低、热稳定性高、重复性高。制得的Ti基蒙脱土Cu催化剂具有较宽的介孔结构(孔径为2.2-6.8nm),较高的比表面积(178-312m2/g)和较强的抗硫和抗水性能,可应用于HC-SCR反应中;在以烃类物质为还原剂、氧含量=8-15vol.%的情况下,N2的收率可达50-70%以上。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 ti 基蒙脱土 cu 催化剂 制备 方法 及其 hc scr 中的 应用 | ||
【主权项】:
一种纳米Ti基蒙脱土Cu催化剂的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)制备柱化剂:在持续搅拌下,将Ti的前躯体加入到HCl溶液中,再加入去离子水中至总体积为100ml,搅拌并陈化得到稳定透明的柱化剂;(2)制备蒙脱土悬浮液:将蒙脱土加入到500ml的去离子水中,在20‑60℃搅拌,使蒙脱土充分膨胀;(3)Ti基蒙脱土的制备:将步骤(1)溶液加入到步骤(2)悬浮液中,搅拌陈化后,过滤,用去离子水洗涤数次,然后在80‑120℃温度下干燥6‑24h、在300‑700℃温度下煅烧3‑8h后获得Ti基蒙脱土载体;(4)催化剂的制备:将铜前驱体溶于去离子水中,加入步骤(3)制得的Ti基蒙脱土进行离子交换,经过滤离心、洗涤数次、干燥、煅烧获得Ti基蒙脱土Cu催化剂;Ti基蒙脱土的Cu催化剂的干燥温度为80‑120℃,干燥时间为6‑24h,煅烧温度为200‑600℃,煅烧时间为3‑8h。
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