[发明专利]晶片级透镜阵列用成型模、晶片级透镜阵列的制造方法、晶片级透镜阵列、透镜模块及摄像单元有效
| 申请号： | 201010282785.8 | 申请日： | 2010-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN102023325A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 榊毅史 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;B29C43/02;H04N5/225;B29L11/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种晶片级透镜阵列用成型模、晶片级透镜阵列的制造方法、晶片级透镜阵列、透镜模块及摄像单元，该晶片级透镜阵列用成型模能够不损伤所成型的晶片级透镜地从成型模剥离。作为一种形成有基板部(1)和在该基板部(1)排列的多个透镜部(10)之晶片级透镜阵列的制造方法，将晶片级透镜阵列从模(102、104)脱模时，通过使设置在模(102、104)内部的开闭部件(E1、E2)移动，在模(102、104)与基板部(1)之间使开口(102c、104c)开放，通过从开口(102c、104c)导入流体而在模(102、104)与基板部(1)之间的至少一部分产生剥离。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 透镜 阵列 成型 制造 方法 模块 摄像 单元 | ||
【主权项】：
一种晶片级透镜阵列用成型模，用于晶片级透镜阵列的成型，该晶片级透镜阵列形成有基板部和排列在该基板部的多个透镜部，其特征在于，所述晶片级透镜阵列用成型模由第1模和第2模构成，所述第1模具有转印成型物的一方的面的形状的转印面，所述第2模具有转印所述成型物的另一方的面的形状的转印面，所述晶片级透镜阵列用成型模具备：在所述第1模及所述第2模中的至少一方的所述转印面具有开口的流路；将该开口开放锁闭的开闭部件，关于所述开闭部件，在使所对置配置的转印面之间所配置的成型材料铸压、固化而成型的期间，被保持在锁闭所述开口的位置；在成型后的开模时，移动至开放所述开口的位置，由此形成从该开口导入流体的流路。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社，未经富士胶片株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010282785.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
