[发明专利]有机EL用掩模清洗方法、有机EL用掩模清洗装置及有机EL显示器的制造装置无效

专利信息
申请号: 201010283620.2 申请日: 2010-09-10
公开(公告)号: CN102034937A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 弓场贤治;片桐贤司;井崎良;片冈文雄 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 黄永杰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,提供一种有机EL用掩模清洗方法,在应用激光除去附着于有机EL用掩模的有机材料时,对有机EL用掩模不会造成不能复原的损害,获得高的清洁度。一种有机EL用掩模清洗方法,在附着了有机材料(51)的有机EL用掩模(2)的表面扫描激光而除去有机材料(51),其照射在使激光(L)透过有机材料(51)照射到有机EL用掩模(2)时,将有机材料(51)维持在固态,且有机EL用掩模在照射后不变形的激光(L)。另外,通过照射激光(L),在有机材料(51)和有机EL用掩模(2)间具有由温度差引起的热膨胀差,由此,对层间作用剥离力进行有机材料(51)的除去。
搜索关键词: 有机 el 用掩模 清洗 方法 装置 显示器 制造
【主权项】:
一种有机EL用掩模清洗方法,其在附着了有机材料的有机EL用掩模的表面扫描激光而除去所述有机材料,其特征在于,照射如下的激光:在透过所述有机材料地使所述激光照射到所述有机EL用掩模时,将所述有机材料维持在固态,且所述有机EL用掩模在照射后不变形的激光。
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