[发明专利]清洗方法、清洗系统以及制造微结构的方法有效
| 申请号： | 201010287644.5 | 申请日： | 2010-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102030306A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 速水直哉;田家真纪子;加藤昌明;土门宏纪;尾川裕介;黑川祯明;小林信雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;氯工程株式会社;芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据一个实施方案，公开了一种清洗方法。该方法通过电解稀硫酸溶液可以制备包括氧化物质的氧化溶液。另外，该方法可以向待清洗物体表面单独地、按顺序地或基本上同时地供给高浓缩无机酸溶液和氧化溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 系统 以及 制造 微结构 | ||
【主权项】：
一种清洗方法，其包括：通过电解稀硫酸溶液制备包括氧化物质的氧化溶液，和向待清洗物体表面单独地、按顺序地或基本上同时地供给高浓缩无机酸溶液和氧化溶液。
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