[发明专利]基于误差因素的反射面天线机电综合分析方法有效
申请号: | 201010290058.6 | 申请日: | 2010-09-20 |
公开(公告)号: | CN102073754A | 公开(公告)日: | 2011-05-25 |
发明(设计)人: | 郑飞;李娜;段宝岩;陈梅;李鹏 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50;H01Q19/10 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 王品华;朱红星 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了基于误差因素的反射面天线机电综合分析方法,用于解决现有分析方法无法分析非理想模型,无法在分析过程中施加制造误差、随机误差、系统误差的问题。其具体过程是:将制造误差融入到结构参数之中,进行几何造型;施加环境载荷,控制系统误差,完成结构分析,得到变形结构模型;通过模型转换,将变形结构模型转化为电磁分析模型;进行电磁分析,可得到反射面天线的电性能。通过本方法的系统分析流程,最终实现反射面天线的机电综合分析。本方法将反射面天线的制造误差、系统误差、随机误差引入到天线分析过程中,显著提高天线的分析精度和效率,可用于微波频段反射面天线、平板裂缝阵天线、滤波器的分析与设计工作。 | ||
搜索关键词: | 基于 误差 因素 反射 天线 机电 综合分析 方法 | ||
【主权项】:
一种基于误差因素的反射面天线机电综合分析方法,包括如下步骤:(1)根据天线加工的实际情况,确定天线制造误差的量值,按如下步骤将其融入到天线的结构参数中,对天线进行几何造型:(1a)根据天线的具体形式以及电性能指标要求,提取天线的主要结构参数;(1b)将结构参数按照相应的格式,写成可编辑的文件格式;(1c)利用现有的三维造型软件,读取天线结构参数的文本文件,得到天线的三维模型;(1d)根据天线加工的实际情况,确定天线模型的描述精度,通过改变描述精度来仿真天线制造精度的改变;如制造误差只在局部存在,通过输入位置坐标,确定制造误差施加的范围。(2)根据天线的几何造型,建立天线的结构模型;(3)根据天线的实际工作情况,确定环境载荷的量值,将环境载荷的量值施加到天线结构模型中,得到确定系统误差的天线变形结构网格:(4)根据天线变形结构网格,构建天线的变形结构模型;(5)根据天线的实际工作环境,确定随机误差的量值,并将随机误差的量值施加到天线的变形结构模型中:(6)将天线的变形结构模型转换为天线电磁分析模型:(6a)由天线结构分析模型,得到天线结构模型的体单元;(6b)由天线结构模型的体单元提取出天线表面单元;(6c)对天线表面模型进行修正;(6d)重新进行网格划分,构建符合电磁分析要求的新网格;(6e)根据电磁分析网格,构建天线电磁分析模型;(7)根据天线电磁分析模型,设置边界条件,激励,划分网格,计算天线的电性能参数,如果满足天线电性能计算精度要求,完成计算,反之,重复步骤(1)至步骤(6),直到满足要求为止。
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