[发明专利]制造石墨烯的方法和通过该方法制造的石墨烯有效
申请号: | 201010292705.7 | 申请日: | 2010-09-20 |
公开(公告)号: | CN102020271A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 宋荣日;安钟贤;李荣彬;洪秉熙 | 申请(专利权)人: | 三星泰科威株式会社;成均馆大学产学协力团 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 郭鸿禧;罗延红 |
地址: | 韩国庆尚*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供了一种制造石墨烯的方法、由所述方法制造的石墨烯、包含所述石墨烯的导电薄膜、包含所述石墨烯的透明电极和包含所述石墨烯的辐射或加热装置。所述方法包括:制备石墨烯构件,所述石墨烯构件包括基体构件、形成在所述基体构件上的亲水性氧化物层、形成在所述氧化物层上的疏水性金属催化剂层和在所述金属催化剂层上生长出的石墨烯;将水施加于所述石墨烯构件;将所述金属催化剂层与所述氧化物层分离;使用蚀刻工艺去除所述金属催化剂层。 | ||
搜索关键词: | 制造 石墨 方法 通过 | ||
【主权项】:
一种制造石墨烯的方法,所述方法包括:制备石墨烯构件,所述石墨烯构件包括基体构件、形成在所述基体构件上的亲水性氧化物层、形成在氧化物层上的疏水性金属催化剂层和在金属催化剂层上生长出的石墨烯;将水施加于所述石墨烯构件;将金属催化剂层与氧化物层分离;使用蚀刻工艺去除金属催化剂层。
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