[发明专利]一种硅基MOS管控制发光二极管的器件、阵列及制造方法无效

专利信息
申请号: 201010293194.0 申请日: 2010-09-27
公开(公告)号: CN101976668A 公开(公告)日: 2011-02-16
发明(设计)人: 刘昕彦;王鹏飞;张卫 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L27/102 分类号: H01L27/102;H01L21/8252;H01L33/06;G03B21/20
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于半导体器件技术领域,具体为一种使用硅基MOS管控制发光二极管的半导体器件、阵列及制备方法。本半导体器件包括至少两个半导体衬底、位于所述半导体衬底之上形成的一个硅基MOS晶体管和一个发光二极管。本发明将发光二极管及硅基MOS晶体管集成在同一个芯片上,使单个芯片就可以实现图像的发射。由多个所述半导体器件还可以构成一个半导体器件阵列。采用本发明技术制造的投影机具有体积小、功耗低、可便携性等优点,而且,集成电路芯片的使用,使得投影机系统大大简化,降低了生产成本,并且可以大大提高像素及亮度。
搜索关键词: 一种 mos 控制 发光二极管 器件 阵列 制造 方法
【主权项】:
一种硅基MOS晶体管控制发光二极管的半导体器件,其特征在于包括至少两个半导体衬底、位于所述半导体衬底之上形成的一个硅基MOS晶体管和一个发光二极管,发光二极管记为LED,其中:所述LED包括至少一个发光层、位于所述发光层之上的p型区域、位于所述发光层之下的n型区域;所述硅基MOS晶体管包括至少一个源区、一个漏区、一个衬底区和一个栅区;所述硅基MOS晶体管的衬底区位于发光二极管的p型区域之上,通过SiO2实现电学隔离;所述硅基MOS晶体管的源极或漏极与所述的LED的p型区域通过金属连接。
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