[发明专利]光掩模及其制造方法、图案转印方法及液晶显示装置制作方法有效
| 申请号： | 201010295533.9 | 申请日： | 2010-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN102033420A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 吉田光一郎 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F7/00;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光掩模及其制造方法、图案转印方法及液晶显示装置制作方法。一种光掩模，该光掩模对形成在待蚀刻加工的被加工体上的抗蚀剂膜转印包含线与间隙图案的预定转印图案，使抗蚀剂膜成为在所述蚀刻加工中作为掩模的抗蚀剂图案，其中，利用半透光部设置形成在透明基板上的线与间隙图案的线图案，利用透光部设置间隙图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 及其 制造 方法 图案 液晶 显示装置 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光掩模，该光掩模对形成在待蚀刻加工的被加工体上的抗蚀剂膜转印包含线与间隙图案的预定转印图案，使所述抗蚀剂膜成为所述蚀刻加工中作为掩模的抗蚀剂图案，其中，所述转印图案是由透光部和半透光部设置的，所述透光部和半透光部是通过对形成在透明基板上的半透光膜进行构图而形成的，形成在所述透明基板上的所述线与间隙图案的线图案是由所述半透光部设置的，所述间隙图案是由所述透光部设置的。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
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