[发明专利]镀膜装置

摘要

本发明提供一种镀膜装置，包括一个形成装置、一个中间装置、一个制程装置、一个第一开关装置、一个第二开关装置及一个控制装置。该形成装置具有一个反应腔。该中间装置连接至该形成装置且具有一个连通该反应腔的等待腔。该制程装置连接至该中间装置且具有一个连接至该等待腔的制程腔。该第一开关装置用于控制该反应腔与该等待腔连通与隔绝。该第二开关装置用于控制该等待腔与该制程腔连通与隔绝。该控制装置用于控制第一及第二开关装置的作动。如此，前驱物可在反应腔中充分反应，反应后的前驱物进入等待腔后可在其中可被调配成适当浓度，最后才进入制程腔在基板上积淀成所需膜层。整个镀膜过程均可被准确地控制，使得所镀膜层的厚度均匀。

主权项

一种镀膜装置，包括：一个形成装置，其具有一个反应腔；一个连接至该形成装置的中间装置，其具有一个连通该反应腔的等待腔；一个连接至该中间装置的制程装置，其具有一个连接至该等待腔的制程腔；一个第一开关装置，用于控制该反应腔与该等待腔连通与隔绝；及一个第二开关装置，用于控制该等待腔与该制程腔连通与隔绝；及一个控制装置，用于控制第一及第二开关装置的作动。