[发明专利]投影光学系统、曝光装置和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种投影光学系统、曝光装置和器件制造方法，该投影光学系统具有第1光学系统、第2光学系统、第3光学系统以及控制部分，其中，将投影光学系统的、与第1方向正交的第2方向和与第1方向和第2方向正交的第3方向上的倍率的应修正量分别设为A和B，将第3光学系统对投影光学系统的第2方向和第3方向上的倍率的修正量设为C时，控制部分控制第1光学系统、第2光学系统和第3光学系统，使得修正量C成为应修正量A与应修正量B之间的量，第1光学系统对第2方向上的倍率的修正量成为(A-C)，第2光学系统对第3方向上的倍率的修正量成为(B-C)。

主权项

一种投影光学系统，在从物面到像面的光路上，从所述物面一侧开始依次配置第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜以及第2平面镜，所述物面和所述第1平面镜之间的光路与所述第2平面镜和所述像面之间的光路平行，其中，所述投影光学系统具有：第1光学系统，配置在所述物面和所述第1平面镜之间的光路上，修正与沿该光路的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；第2光学系统，配置在所述第2平面镜和所述像面之间的光路上，修正与所述第1方向和所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率；第3光学系统，配置在所述物面和所述第1平面镜之间的光路或所述第2平面镜和所述像面之间的光路上，在所述第2方向和所述第3方向上以相同的倍率修正所述投影光学系统的倍率；以及控制部分，其中，将所述投影光学系统的所述第2方向和所述第3方向上的倍率的应修正量分别设为A和B，将所述第3光学系统对所述投影光学系统的所述第2方向和所述第3方向上的倍率的修正量设为C时，所述控制部分控制所述第1光学系统、所述第2光学系统和所述第3光学系统，使得所述修正量C成为所述应修正量A与所述应修正量B之间的量，所述第1光学系统对所述第2方向上的倍率的修正量成为(A‑C)，所述第2光学系统对所述第3方向上的倍率的修正量成为(B‑C)。