[发明专利]装载锁定装置,包括该装置的光刻设备及制造基底的方法有效
| 申请号： | 201010298735.9 | 申请日： | 2004-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN101986208A | 公开（公告）日： | 2011-03-16 |
| 发明（设计）人： | A·J·H·克洛普;J·F·胡格坎普;R·维斯塞;J·C·J·A·乌格特斯;H·J·L·M·乌林斯;L·W·M·奎佩斯;J·H·G·弗兰斯森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 装载锁定装置，包括该装置的光刻设备及制造基底的方法用于光刻设备的装载锁定装置，被设置用来把类似于基底(W)的物体转移到光刻设备和从光刻设备中转移出来。装载锁定装置的外壁(38；40)限定装载锁定装置容积的至少一部分，以便当物体在所述装载锁定装置中时，该容积可容纳支承物体(W)的支承部件(33；141)。该装载锁定装置还包括温度调节结构，用来至少在物体从装载锁定装置向光刻投射装置转移之前，控制物体的温度达到要求的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 装载 锁定 装置 包括 光刻 设备 制造 基底 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备中的支承结构，所述支承结构包括支承基底的主体，以及包括供给管线，用来在所述基底和所述支承结构间的容积中供给气体，该支承结构被设置用来经由所述容积中的所述气体控制基底温度；所述支承结构包括固定主体，且所述支承结构被设置成使用中在所述固定主体中旋转所述主体，所述主体和所述固定主体在它们之间限定了与所述容积连通的间隙，所述的固定主体具有允许温度受控流体在其中流过的管线。
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