[发明专利]折反射投射物镜有效
| 申请号： | 201010299110.4 | 申请日： | 2010-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102033299A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 亚历山大·埃普尔;托拉尔夫·格鲁纳;拉尔夫·米勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00;G02B17/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于微光刻的折反射投射物镜(1)，该折反射投射物镜(1)用于将物面(5)中的物场(3)成像到像面(9)中的像场(7)，且包括第一分物镜(11)，用于将物场成像到实的第一中间像(13)上；第二分物镜(15)，用于将第一中间像成像到实的第二中间像(17)上；以及第三分物镜(19)，用于将第二中间像成像到所述像场(7)上。第二分物镜(15)恰具有一个凹面镜(21)和至少一个透镜(23)。凹面镜(21)的镜表面的光学利用区域与邻近该凹面镜的透镜(23)的面对该凹面镜的表面(25)的光学利用区域之间的最小距离大于10mm。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 投射 物镜 | ||
【主权项】：
一种用于微光刻的折反射投射物镜(1，701)，用于将物面(5，705)中的物场(3，703)成像到像面(9，709)中的像场(7，707)上，包括：第一分物镜(11，711)，用于将所述物场成像到实的第一中间像(13，713)上；第二分物镜(15，715)，用于将所述第一中间像成像到实的第二中间像(17，717)上；以及第三分物镜(19，719)，用于将所述第二中间像成像到所述像场(7，707)上，其中所述第二分物镜(15，715)恰具有一个凹面镜(21，721)和至少一个透镜(23，723)，其中所述投射物镜具有第一折叠镜(27，727)和第二折叠镜(29，729)，所述第一折叠镜(27，727)用于将来自所述物面的辐射偏向所述凹面镜的方向，所述第二折叠镜(29，729)用于将来自所述凹面镜的辐射偏向所述像面的方向，其中所述投射物镜恰具有两个实的中间像(13，17；713，717)，并且其中所述投射物镜在所述像面(9，709)中具有大于1.0的数值孔径，其特征在于：所述凹面镜(21，721)的镜表面的光学利用区域与邻近所述凹面镜的透镜(23，723)的面对所述凹面镜的表面(25，725)的光学利用区域之间的最小距离大于10mm。
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