[发明专利]光刻设备和操作光刻设备的方法有效
| 申请号： | 201010501461.9 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102033435A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | K·T·霍尔柯德;R·F·德格拉夫;H·詹森;M·H·A·里德尔斯;A·J·范德奈特;P·J·克拉莫尔;A·昆吉皮尔;A·H·J·A·马坦斯;S·范德格拉夫;A·V·帕迪瑞 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和操作光刻设备的方法以及一种清洁液体供给系统。清洁液体供给系统可以供给乳化的清洁液体，以清洁浸没式光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 操作 方法 | ||
【主权项】：
一种流体供给设备，所述流体供给设备被配置以将乳化的清洁流体供给至浸没式光刻设备，所述流体供给设备包括混合器和传感器系统以及控制器，所述混合器被配置成将来自添加剂流体供给装置的添加剂流体和来自浸没液体供给装置的浸没液体混合，以形成所述乳化的清洁流体，所述传感器系统被配置以感测所述乳化的清洁流体的物理性质，所述控制器被连接至所述传感器和所述混合器，所述控制器被配置以控制：所述添加剂流体从所述添加剂流体供给装置至所述混合器的供给；和所述乳化的清洁流体的物理性质。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010501461.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
