[发明专利]防尘薄膜组件的制造方法、光刻用防尘薄膜组件框架及光刻用防尘薄膜组件

摘要

本发明提供一种防尘薄膜组件框架及包含该防尘薄膜组件框架的光刻用防尘薄膜组件的制造方法，即使将防尘薄膜组件贴附于曝光原版，也可将起因于防尘薄膜组件框架的变形所造成的曝光原版的变形尽量减小。本发明的方法为包含在施加负载于设置在平坦面上的防尘薄膜组件框架的状态下进行加热处理的步骤的防尘薄膜组件框架的制造方法，可有效率地获得平坦度在15μm以下的防尘薄膜组件框架。另外，本发明的特征为：预先在既定温度进行加热处理，以使光刻步骤时的温度变化所造成的框架变形实质上不发生。较理想的情况为：温度变化所造成的框架变形为平坦度3μm以下、该加热处理温度为140至250℃、而该框架由杨氏模量为1至80GPa的材料所构成。

主权项

一种防尘薄膜组件的制造方法，该防尘薄膜组件具有防尘薄膜组件框架，其特征在于，该防尘薄膜组件框架包括：第1框架端面，用于粘贴张设防尘薄膜；及第2框架端面，于其上设置粘附层；该防尘薄膜组件框架被一对与第1及第2框架端面相对的平坦面夹住，在施加负载的状态下，以既定温度进行加热处理。