[发明专利]一种POSS改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201010502646.1 | 申请日： | 2010-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN102019738A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 戴李宗;蒋斌杰;罗宇峰;罗伟昂;许一婷 | 申请（专利权）人： | 厦门大学;厦门顺峰包装材料有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/08 | 分类号： | B32B27/08;B32B27/18;C08L23/08;C08L23/06;C08K5/549;B65D65/40 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人： | 陈永秀;马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种POSS改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法，涉及一种包装薄膜。提供一种具有阻隔性能、力学性能、耐热性能和透明性较好的多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜及其制备方法。薄膜包括外、中、里三层，外层薄膜组份为低密度聚乙烯、线型低密度聚乙烯和多面体低聚倍半硅氧烷改性剂，中层薄膜组份为乙烯-乙烯醇共聚物和增容树脂，里层薄膜组份为LDPE、LLDPE和开口剂。先制备多面体低聚倍半硅氧烷改性剂，再制备含多面体低聚倍半硅氧烷改性剂的外层薄膜母粒，最后制备多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 poss 改性 阻隔 三层 包装 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种多面体低聚倍半硅氧烷改性高阻隔三层共挤包装薄膜，其特征在于包括外、中、里三层，其中外层薄膜组份为10％～20％的低密度聚乙烯、74％～87％的线型低密度聚乙烯和3％～6％多面体低聚倍半硅氧烷改性剂，中层薄膜组份为85％～90％的乙烯‑乙烯醇共聚物和10％～15％的增容树脂，里层薄膜组份为10％～20％的低密度聚乙烯，79％～89％的线型低密度聚乙烯和1％的开口剂。
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