[发明专利]光掩模用的缺陷修正方法及装置、缺陷修正头、缺陷检查装置及光掩模制造方法无效
| 申请号： | 201010503241.X | 申请日： | 2010-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN102043328A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 坂本有司;河守将典 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/08;G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林;王小东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供用多个探针除去光掩模上的异物缺陷的光掩模用的缺陷修正方法及装置、缺陷修正头、缺陷检查装置及光掩模制造方法。即准备多个探针，使其中至少两个探针同时接触光掩模表面上存在的异物，以至少不同的三处保持异物，将被保持的上述异物从光掩模表面远离，由此除去光掩模上的异物缺陷进行修正。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模用 缺陷 修正 方法 装置 检查 光掩模 制造 | ||
【主权项】：
一种光掩模缺陷修正方法，该光掩模缺陷修正方法采用探针除去光掩模上的异物缺陷，其特征在于，准备多个探针，使其中至少两个探针同时接触光掩模表面上存在的异物，从而以至少不同的三处保持异物，使被保持的上述异物从光掩模表面远离。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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