[发明专利]纳米结构的后沉积包封:组合物、器件及包含它们的系统有效

专利信息
申请号: 201010503565.3 申请日: 2005-06-07
公开(公告)号: CN102054527A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: J·A·怀特佛德;R·部鲁尔;M·布勒堤;陈建;K·C·克鲁登;段镶锋;W·P·弗里曼;D·希尔德;F·利昂;刘超;A·麦瑟;K·S·闵;J·W·帕斯;E·西尔 申请(专利权)人: 奈米系统股份有限公司
主分类号: G11C13/00 分类号: G11C13/00;C09D1/00;B82B1/00;B82Y10/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 朱黎明
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供了用来制备离散的涂覆纳米结构的配体组合物,以及涂覆纳米结构本身和包含它们的器件。还提供了在纳米结构上形成后沉积壳和对纳米结构进行可逆改性的方法。本发明的配体和涂覆的纳米结构特别适用于密堆积的纳米结构组合物,这种组合物能改善量子约束和/或减少纳米结构之间的交叉干扰。
搜索关键词: 纳米 结构 沉积 组合 器件 包含 它们 系统
【主权项】:
电荷存储器或存储器,包含许多含金属核和Si2O壳的离散纳米结构,其中,单元纳米结构和其壳一起的直径小于或等于50纳米,单元纳米结构排列成单层阵列,其存在的密度大于1×1012/厘米2。
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