[发明专利]稀土离子掺杂的氧氟化物微晶玻璃光纤无效

专利信息
申请号: 201010504859.8 申请日: 2010-10-13
公开(公告)号: CN102122019A 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: 孙义兴;张腊生;谭会良;许建国;廖郑洪;李炳惠;张华;李涛;陈曲;谢河彬 申请(专利权)人: 成都亨通光通信有限公司
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02;C03C13/04
代理公司: 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 代理人: 杨刚
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及微晶玻璃光纤,特别是一种稀土离子掺杂的氧氟化物微晶玻璃光纤。本发明的芯外包层是由规则排列的聚合物光子晶体光纤堆积而成,具有光子禁带作用,保证了光在芯区的传输损耗低或损耗,色散特性好,可以远距离传输,实现了真正意义的光纤传输光的作用,本发明方法制备的光纤柔韧性好、制备简单、成本低、适于与主干线兼容,适用于局域网和光纤入户。
搜索关键词: 稀土 离子 掺杂 氟化物 玻璃 光纤
【主权项】:
一种稀土离子掺杂的氧氟化物微晶玻璃光纤,由纤芯和包层两部分构成,二者中心轴线重合,其特征在于所述纤芯的材料选为掺稀土离子的氧氟化物玻璃系统,纤芯横截面为圆形;内包层的材料选为无稀土离子掺杂的氧氟化物玻璃系统,光纤内包层具有较纤芯低的折射率,即n内<n芯,具体配方如下:组分                   摩尔百分比SiO2     35~45Al2O3    12~20PbF2     10~20CdF2     20~27GdF3     0~4.9NdF3     0.05~0.15HoF3     0.05~0.15YbF3     0~5.7。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都亨通光通信有限公司,未经成都亨通光通信有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010504859.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top