[发明专利]表面处理器具有效
| 申请号： | 201010511819.6 | 申请日： | 2010-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN102038457A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·怀特 | 申请（专利权）人： | 戴森技术有限公司 |
| 主分类号： | A47L9/00 | 分类号： | A47L9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 葛青 |
| 地址： | 英国威*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 一种立式表面处理器具，包括主体(14)和支架(180)，该支架可相对于主体(14)在支撑位置和收回位置之间枢转。支架保持机构(210)被提供用于可释放地把支架保持在支撑位置，该其包括锁定构件(212)，该锁定构件可绕第一轴线枢转地运动以在支架被从支撑位置移动到收回位置时释放支架(180)，且可绕与第一轴线间隔的第二轴线枢转地运动以在支架被返回至支撑位置时保持该支架(180)。偏压装置(232)施加第一力至锁定构件(212)，该第一力抵抗锁定构件绕第一轴线的运动。为了便于支架返回至其支撑位置，偏压装置(232)施加相对较小的第二力以在锁定构件(212)绕第二轴线运动后将其复位。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 器具 | ||
【主权项】：
一种立式表面处理器具，包括：主体；支架，可相对于主体在支撑位置和收回位置之间枢转；和支架保持机构，用于可释放地把支架保持在支撑位置，该支架保持机构包括：支架锁定构件，可绕第一轴线枢转地运动以在支架被从支撑位置移动到收回位置时释放支架，且可绕与第一轴线间隔开的第二轴线枢转地运动以在支架被返回至支撑位置时保持该支架；和偏压装置，用于施加第一力至锁定构件，该第一力抵抗锁定构件绕第一轴线的运动，和施加比第一力小的第二力至锁定构件，该第二力抵抗锁定构件绕第二轴线的运动。
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