[发明专利]等离子体辅助原子层沉积装置及其控制方法

摘要

本发明公开一种等离子体辅助原子层沉积装置及其控制方法。该等离子体辅助原子层沉积装置，其由多个反应室以及一可移动的遮板所组成的等离子体辅助原子层沉积装置，每一个反应室至少包含两个反应空间以及一可移动基材加热承载模块。该控制方法是通过控制遮板的移动，使得遮板得以选择分隔每一个反应室中的两个反应空间或者是使该两个反应空间相连通，而能避免不同制作工艺气体交互反应所产生的微粒污染基材表面。

主权项

一种等离子体辅助原子层沉积装置，其包括有：多个反应室，每一反应室具有第一反应空间以及第二反应空间；阻隔单元，其通过一调整运动以将该第一反应空间以及该第二反应空间分隔或者是使该第一反应空间与该第二反应空间连通；第一气体供应单元，其提供一第一制作工艺气体给每一个第一反应空间；第二气体供应单元，其提供一第二制作工艺气体给每一第二反应空间；清除气体供应单元，其提供一清除气体给每一反应室；以及多个加热承载模块，其分别设置于该多个反应室内，每一个加热承载模块通过一升降运动以选择移动至该第一反应空间内或者是该第二反应空间内。