[发明专利]层叠薄膜及其波形周线控制表面传导电子发射源制作方法无效
| 申请号： | 201010516898.X | 申请日： | 2010-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN101989520A | 公开（公告）日： | 2011-03-23 |
| 发明（设计）人： | 刘红忠;丁玉成;陈邦道;樊帆;卢秉恒 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 陆万寿 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种层叠薄膜及其波形周线控制表面传导电子发射源制作方法。该方法采用UV套印光刻、磁控溅射以及薄膜剥离等工艺技术，在玻璃基底上制备带有面内波形边界薄膜的电子发射源阵列。上下薄膜间距通过绝缘层薄膜控制在10～200nm之间，上下薄膜间施加电压实现薄膜间的周线上产生电子遂穿效应，薄膜周线的波形结构可以提高发射源周长，增加电子发射量。 | ||
| 搜索关键词： | 层叠 薄膜 及其 波形 控制 表面 传导 电子 发射 制作方法 | ||
【主权项】：
层叠薄膜及其波形周线控制表面传导电子发射源制作方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)采用普通光刻、溅射和剥离工艺制备金属纵向信号总线；(2)在纵向信号总线上，采用套印光刻将电子发射源阵列图形化定位，然后通过溅射和剥离工艺制备电子发射源下发射薄膜；(3)在下发射薄膜之上，再次套印光刻将带有矩形波纹边界的发射间隙层和上发射薄膜图形化定位；再通过溅射和剥离工艺制备发射源上下薄膜之间的间隙绝缘层和电子发射源上薄膜；(4)在纵横总线交错的位置采用丝网印刷技术制备绝缘层；(5)采用丝网印刷将同一行中的电子发射源上薄膜用一根银胶串联起来形成横总线，即得表面传导电子发射源。
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