[发明专利]一种抛光组合物无效
| 申请号： | 201010517500.4 | 申请日： | 2010-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN102453438A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种抛光组合物，其用于层间介质材料平坦化，它至少含有一种磨料，一种pH调节剂，一种辅助清洗剂，一种螯合剂。该抛光液的特点是具有较高的二氧化硅去除速率，能够有效去除晶圆表面的颗粒物残留，具有很高的平坦化效率和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 组合 | ||
【主权项】：
一种抛光组合物，包括：一种磨料，一种pH调节剂，一种辅助清洗剂，一种螯合剂。
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