[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201010517514.6 | 申请日： | 2010-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN102453440A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液，它至少包含一种磨料粒子，一种金属螯合剂，一种二氧化硅抛光促进剂，组合金属防腐蚀剂，一种辅助清洗组分以及一种氧化剂。该抛光液在阻挡层的抛光中能有效去除晶片表面的。颗粒物残留和抛光垫上的金属化合物残留，且具有较好的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种用于铜互连阻挡层化学机械抛光的抛光液，包括：一种磨料颗粒、一种金属螯合剂、一种二氧化硅抛光促进剂、组合金属防腐蚀剂、一种辅助清洗剂以及一种氧化剂。
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