[发明专利]一种MgZnO薄膜的制备方法及其应用有效
申请号: | 201010518187.6 | 申请日: | 2010-10-25 |
公开(公告)号: | CN102453865A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 周明杰;王平;陈吉星;黄辉 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/35 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518052 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及半导体材料制备领域,提供一种MgZnO薄膜的制备方法。该方法通过将MgO和ZnO粉体混合,烧结成MgZnO陶瓷作为靶材,其中,MgO和ZnO的摩尔量比为0.15~1.2;然后将上述MgZnO陶瓷靶材装入具有一衬底的磁控溅射腔体,抽真空,将衬底温度升到500℃~800℃;最后通入氩气,设置工艺参数为:流量为15sccm~25sccm,调节工作压强为0.6Pa~1.6Pa,溅射功率60W~160W,在衬底上溅射沉积生长MgZnO薄膜。本发明采用单一的靶材,便制备得到不同Mg含量的MgZnO薄膜。方法简单,节省材料,同时也可以达到精确控制薄膜禁带宽度的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 mgzno 薄膜 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种MgZnO薄膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:步骤一、靶材的制备,将MgO和ZnO粉体混合,烧结作为靶材,所述MgO与ZnO的摩尔量比为0.15~1.2;步骤二、薄膜的沉积,将所述MgZnO靶材装入磁控溅射腔体内,抽真空,设置衬底温度为500℃~800℃,惰性气体流量为15sccm~25sccm,压强为0.6Pa~1.6Pa,溅射功率60W~160W,沉积时间为60min~240min。
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