[发明专利]用于测量卷对卷装置的基材的传送速度的装置及其方法无效
| 申请号： | 201010518953.9 | 申请日： | 2010-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN102455365A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 叶光明;蔡政哲;曾健明;林治中 | 申请（专利权）人： | 财团法人金属工业研究发展中心 |
| 主分类号： | G01P3/36 | 分类号： | G01P3/36 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾高雄*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于测量卷对卷装置的基材的传送速度的装置及其方法，该装置包含一光学感测模块、一处理模块及一监控模块，该方法先由该光学感测模块侦测一基材的一变化量，依据该变化量得到一相对位移量讯号，并转换该相对位移量讯号为一相对正交脉波讯号，且传送至该处理模块进行运算分析，再传送至该监控接口统计分析，最后得到一基材传送速度。本发明的装置主要利用一光学感测模块侦测基材移动的变化量，本发明的该光学感测模块具有低成本，可有效降低整体成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 装置 基材 传送 速度 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种测量传送速度的装置，其特征在于，该测量传送速度的装置是用于测量设置于一卷对卷装置的一基材的传送速度，该测量传送速度的装置是包含：一光学感测模块，发射一光源至正在移动的该基材表面，并接收从该基材反射回来的一第一反射光及一第二反射光，且依据该第一反射光及该第二反射光分别产生一第一影像及一第二影像，计算该第一影像与该第二影像之间的一变化量，依据该变化量得到一相对位移量讯号，转换该相对位移量讯号为一相对正交脉波讯号；一处理模块，接收并运算分析该相对正交脉波讯号；以及一监控模块，接收并统计分析已运算分析的该相对正交脉波讯号，得到该基材传送速度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人金属工业研究发展中心，未经财团法人金属工业研究发展中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010518953.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
