[发明专利]半导体发光器件无效

专利信息
申请号: 201010519048.5 申请日: 2010-10-21
公开(公告)号: CN102122792A 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: 荒木田孝博;内田史朗;汐先政贵;前田修 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01S5/00 分类号: H01S5/00;H01S5/026
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种半导体发光器件,通过简单的制造工艺实现提高的光检测精度。除了用于窄化电流的第一氧化层之外,在活性层和半导体光检测元件之间设置一个或多个第二氧化层。由于自发发射光包括许多发散分量,自发发射光被第二氧化层反射和散射,则抑制了自发发射光向半导体光检测元件侧的传播。经半导体光检测元件的自发发射光的检测强度降低,从而提高了光检测精度。第一和第二氧化层通过单一的氧化工艺形成,使得制造工艺被简化。
搜索关键词: 半导体 发光 器件
【主权项】:
一种半导体发光器件,包括:在衬底上的半导体光检测元件;以及在所述半导体光检测元件上的面发光半导体激光元件,其中,所述面发光半导体激光元件包括:第一多层反射膜,在所述半导体光检测元件上;活性层,设置在所述第一多层反射膜上并且包括发光区域;第二多层反射膜,在所述活性层上;第一氧化层,设置在所述第一多层反射膜或所述第二多层反射膜中,具有与所述活性层中的所述发光区域相对的用于通过电流的开口,并且具有在所述开口的外围的氧化区域;以及一个或多个第二氧化层,设置在所述活性层和所述半导体光检测元件之间,具有与所述第一氧化层中的所述开口相对的开口,并且具有在所述开口的外围的氧化区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司,未经索尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010519048.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top