[发明专利]一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法无效
| 申请号： | 201010519261.6 | 申请日： | 2010-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN102001715A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 王土军;徐增宏;余城伟;方明游 | 申请（专利权）人： | 浙江硅宏电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/00 | 分类号： | C02F1/00 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 舒良 |
| 地址： | 324300 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法，其单晶硅片的清洗需要经过超洗→鼓泡超洗→药品+纯水超洗第一次→药品+纯水超洗第二次→纯水超洗第一次→纯水超洗第二次→纯水超洗第三次→纯水超洗第四次，且其中需要利用制水设备将自来水分离成纯水和浓水；只要把上述的纯水超洗第三、纯水超洗第四次后的排放水回收，并与浓水混合后，该混合水可先用于鼓泡超洗，然后用于超洗，之后排放处理，也可以分别用于鼓泡超洗和超洗，再各自排放处理；或是将上述所制得的浓水可先用于鼓泡超洗，然后用于超洗，之后排放处理，也可以分别用于鼓泡超洗和超洗，再各自排放处理。采用本发明，不仅可节约大量用水，节省成本，也可减少废水排放，有利于环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 清洗 回收 利用 方法 | ||
【主权项】：
一种单晶硅片清洗用水的回收利用方法，其单晶硅片的清洗需要经过超洗(第一道)→鼓泡超洗(第二道)→药品+纯水超洗第一次(第三道)→药品+纯水超洗第二次(第四道)→纯水超洗第一次(第五道)→纯水超洗第二次(第六道)→纯水超洗第三次(第七道)→纯水超洗第四次(第八道)，且其中需要利用制水设备将自来水分离成纯水和浓水，其特征在于把纯水超洗第三(第七道)、纯水超洗第四次(第八道)后的排放水回收，并与浓水混合后，该混合水可先用于鼓泡超洗(第二道)，然后用于超洗(第一道)，之后排放处理，也可以分别用于鼓泡超洗(第二道)和超洗(第一道)，再各自排放处理；或是将上述所制得的浓水可先用于鼓泡超洗(第二道)，然后用于超洗(第一道)，之后排放处理，也可以分别用于鼓泡超洗(第二道)和超洗(第一道)，再各自排放处理。
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