[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201010521488.4 | 申请日： | 2010-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102453868A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;黄嘉 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件，其包括基材及形成于基材表面的透明导电薄膜，该透明导电薄膜为Me掺杂TiO2薄膜，其中Me为钒、铌及钽中的两种或两种以上。本发明所述镀膜件在基材的表面沉积透明导电薄膜，该透明导电薄膜通过高价态的V5+、Nb5+及Ta5+中的两种或两种以上取代部分Ti4+，从而产生自由电子，获得较高的导电率。该透明导电薄膜具有良好的稳定性，可有效地提高镀膜件的使用寿命。另外该透明导电薄膜还具有高透光性。此外，本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，包括基材及形成于基材表面的透明导电薄膜，其特征在于：该透明导电薄膜为Me掺杂二氧化钛薄膜，其中Me为钒、铌及钽中的两种或两种以上。
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