[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法有效
| 申请号： | 201010524985.X | 申请日： | 2010-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102056395A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 山泽阳平;舆水地盐;传宝一树;山涌纯;齐藤昌司 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。在感应耦合型等离子体处理中，使用处于电浮动状态的线圈，自由且精细地控制等离子体密度分布。该感应耦合型等离子体处理装置在接近RF天线(54)的电介质窗(52)之下呈环形地生成感应耦合的等离子体，使该环形等离子体在宽阔的处理空间内分散，在基座(12)附近(即，半导体晶片(W)上)使等离子体的密度变得均匀。为了沿着径向任意地控制基座(12)附近的等离子体密度分布，带电容器的浮动线圈(70)对RF天线(54)产生的RF磁场以及在腔室(10)内生成的环形等离子体的等离子体密度分布发挥消极或者积极的作用。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：具有电介质窗的处理容器；配置在所述电介质窗之外的线圈形状的RF天线；在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部；为了对所述被处理基板实施所希望的等离子体处理，向所述处理容器内供给所希望的处理气体的处理气体供给部；为了在所述处理容器内通过感应耦合生成处理气体的等离子体，向所述RF天线供给适合于处理气体的高频放电的一定频率的高频电力的高频供电部；处于电浮动状态，配置在通过电磁感应能够与所述RF天线耦合的位置，且位于所述处理容器之外的浮动线圈；和在所述浮动线圈的环内设置的电容器。
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