[发明专利]光刻设备和图案形成装置有效
| 申请号： | 201010525965.4 | 申请日： | 2010-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102053502A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;E·R·鲁普斯特拉 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和图案形成装置，光刻设备包括：照射系统，配置以调节辐射束；支撑件，构造以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在其横截面中将图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造以保持衬底；和投影系统，配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上。所述光刻设备还包括投影传递测量布置，以测量投影系统的光学投影传递信息。投影传递测量布置包括：光学装置，在扫描移动期间将测量束引导到投影系统；探测器，在扫描移动期间探测已经穿过所述投影系统的所述测量束；和测量处理装置，根据所探测的测量束确定光学投影传递信息。所述光学装置和所述探测器被布置在所述投影系统的上游端。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 图案 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射系统，被配置以调节辐射束；支撑件，被构造以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中将图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，被构造以保持衬底；和投影系统，被配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；所述光刻设备还包括投影传递测量布置，以测量所述投影系统的光学投影传递信息，所述投影传递测量布置包括：光学装置，用于将测量束引导到投影系统，探测器，用于探测已经穿过所述投影系统的所述测量束，和测量处理装置，用于根据所探测的测量束来确定所述光学投影传递信息，其中所述光学装置和所述探测器被布置在所述投影系统的上游端。
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