[发明专利]含碳或氧同位素化合物、制备方法、应用以及组合物在审
申请号: | 201010527457.X | 申请日: | 2010-10-27 |
公开(公告)号: | CN102452873A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 曾骏;孙启银 | 申请(专利权)人: | 北京大基康明医疗设备有限公司 |
主分类号: | C07B59/00 | 分类号: | C07B59/00;C07H15/252;C07H1/00;C07D501/36;C07D501/04;C07H3/02;C07D487/22;C07F9/38;A61K51/00;A61K101/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种含碳或氧同位素化合物及其制备方法、该含碳或氧同位素的化合物在正电子或其它核素成像中的应用、该含碳或氧同位素的化合物在获得含碳或氧同位素的化合物在有机体内的分布或代谢图像中的应用、包含该含碳或氧同位素化合物的组合物。该含碳或氧同位素的化合物的制备方法为,利用射线照射在含碳或氧化合物上,所述射线的能量为20MeV至430MeV,在不破坏化合物分子结构的情况下,使得含碳或氧化合物中的碳或氧原子通过光核反应产生碳或氧正电子核素,从而制造得到含碳或氧同位素的化合物。将本发明得到的化合物用于有机体中,可以明确标记化合物在有机体内的分布和代谢状况。 | ||
搜索关键词: | 同位素 化合物 制备 方法 应用 以及 组合 | ||
【主权项】:
一种含碳或氧同位素的化合物的制备方法,其特征在于,利用高能电子加速器、质子、重离子或中子治疗设备所产生的射线照射在含碳或氧化合物上,所述射线的能量为20MeV至430MeV,在不破坏化合物分子结构的情况下,使得含碳或氧化合物中的碳或氧原子通过光核反应产生碳或氧正电子核素,从而制造得到含碳或氧同位素的化合物。
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