[发明专利]一种栅控行波管栅极的制作工艺及其模压磨具

摘要

本发明公开了一种栅控行波管栅极的制作工艺及其模压磨具，所述的栅控行波管栅极制作的工艺包括：表面清洁处理→表面涂感光胶→表面干燥处理→照相曝光→显影→表面干燥处理→刻蚀→去胶→模压成形→去应力退火，所述的栅控行波管栅极制作的工艺所用模压磨具，包括置于底座上的定位膜，一端置于定位膜内部底端并与底座相接的外球面膜，置于定位膜中的内球面膜，设于内球面一端上的钢球，内球面膜一端与外球面膜相接，二者相接面均为球面。本发明将逸出功大、熔点及沸点高、稳定性强的金属铪作为基底直接制作栅极，并采用先进的光刻工艺，将行波管栅网的加工精度提高到光学精度，本发明制作的栅极具有加工精度高，光洁度高，合格率高等优点。

主权项

一种栅控行波管栅极的制作工艺，其特征在于：包括以下工序；表面清洁处理→表面涂感光胶→表面干燥处理→照相曝光→显影→表面干燥处理→刻蚀→去胶→模压成形→去应力退火；具体步骤为：a.表面清洁处理具体工艺为：①用乳膏状的MgO在铪基底表面均匀涂擦以去除和吸附基底表面杂质粘接物；②用CrO3及H2SO4配置成1∶1的溶液，将涂擦后的栅网浸洗20～30秒；③将浸洗后的栅网取出后放入丙酮溶液中清洗脱水3分钟；④取出脱水后的栅网，用干燥空气吹干表面上的丙酮；b.表面涂感光胶将表面清洁干净的栅网放置在高速旋转的甩胶机旋转台上，抽真空，向栅网表面滴感光胶，胶层厚度控制在0.8～0.9um；c.表面干燥处理在温度为90±2℃的环境中保温15min进行干燥处理；d.照相曝光在紫外光照射下曝光，曝光时间为60秒；e.显影将3％的NaP溶液加热到190±2℃，将曝光好的栅极浸泡其中10分钟进行显影；f.表面干燥处理在温度为120±2℃的环境中保温25min进行干燥处理；g.刻蚀用FeCl3、H2O2、HNO3配成腐蚀液，腐蚀液的质量配比按照实际需求确定；控制所配溶液的腐蚀速度达2.5μm/s； h.去胶用超生波清洗脱胶，清洗时间为5分钟以上；i.模压成形去完胶的栅极仍然是平面结构，通过模压成为最终的球缺形结构；j.去应力退火为消除栅网在压制成形过程中产生的机械应力，需进行去应力退火处理，退火温度为950℃，保温时间为10分钟；为防止变形，在退火时需要用工装将栅网压紧。