[发明专利]化学气相沉积装置及其控制方法

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积(CVD)装置及其控制方法，所述CVD装置包括：腔室；设置在所述腔室内的在其上放置基片的基座；设置在所述基座上方并供给工艺气的工艺气供给单元；设置在所述基座上方并朝向所述基座或基片开口的检测管；安装在所述检测管的一端并通过所述检测管检测所述基座或基片温度的温度检测部件；和将吹扫气注入所述检测管的吹扫气供给单元。使用所述化学气相沉积(CVD)装置及其控制方法，通过注入所述吹扫气可以更为有效地防止吹扫气回流进入所述检测管中。因此，可以扩大所述检测管的出口，使得即使在光学高温计使用数值孔径较低的物镜时，性能也足以进行温度检测。

主权项

一种化学气相沉积(CVD)装置，所述装置包含：腔室；设置在所述腔室内的在其上放置基片的基座；设置在所述基座上方并供给工艺气的工艺气供给单元；设置在所述基座上方并朝向所述基座或所述基片开口的检测管；安装在所述检测管的末端并通过所述检测管检测所述基座或所述基片的温度的温度检测部件；和将吹扫气注入所述检测管的吹扫气供给单元。